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        東莞市匯成真空科技有限公司

        真空鍍膜設(shè)備 真空鍍膜機(jī)

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        真空鍍膜工藝烘烤時(shí)間溫度的重要性
        發(fā)布時(shí)間:2013-07-30        瀏覽次數(shù):680        返回列表

        在高真空鍍膜設(shè)備系統(tǒng)中,特別是超高真空鍍膜系統(tǒng)工藝中,將氣體從構(gòu)成真空材料中放出并排除掉是決定鍍膜效果的關(guān)鍵因素。在所有超高真空條件下,器壁表面實(shí)際上并未與環(huán)境氣體處于平衡狀態(tài),而是覆蓋著一層可凝性氣體,其含量大大超過平衡狀態(tài)下的含量,所以在超高真空區(qū)域,器壁的放氣率只取決于抽氣時(shí)聞和表面的經(jīng)歷,而與系統(tǒng)的總壓力無關(guān)。通常不銹鋼超高真空系統(tǒng)的極限烘烤濕度為440LC左右,但是某些試驗(yàn)研究表明:在系統(tǒng)的除氣過程中,烘烤溫度不需要特別嚴(yán)格規(guī)定,而系統(tǒng)各處溫度的均勻性要比烘烤溫度重要的多。最好的方法是盡可能均勻地烘烤整個(gè)系統(tǒng),而烘烤溫度在150~250℃比較合適。均勻烘烤40 min的小型真空鍍膜機(jī)中保留著不同比例的未烘烤部分對系統(tǒng)極限壓所產(chǎn)生的影響(烘烤溫度為300。C)。保留的未烘烤的表面積雖然僅占整個(gè)系統(tǒng)的百分之幾,但對系統(tǒng)的最終壓力的影響卻很大。如果在真空系統(tǒng)內(nèi)部的某種材料不能承受1 5 O℃的溫度或者某些重要部件的熱膨脹能引起麻煩時(shí),就應(yīng)選擇較低的烘烤溫度,但一定要對系統(tǒng)所有的部件都要盡可能地均勻烘烤,而且烘烤所持續(xù)的時(shí)間應(yīng)加長。如果系統(tǒng)表面上附有高結(jié)合能的物質(zhì),則需要較高的烘烤溫度才能有比較理想的放氣率。當(dāng)無法對系統(tǒng)整體進(jìn)行均勻烘烤,例如,當(dāng)真空室內(nèi)裝有熱容 量大的法蘭或有絕熱的裝置時(shí),對它們進(jìn)行均勻烘烤十分困難,則需要選擇較高的烘烤溫度。出自匯成真空鍍膜設(shè)備http://www.suichenggd.cn/
        2013-7-30
         
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